在edi超純水設(shè)備運行一段時間后，edi模塊內(nèi)部水道可能產(chǎn)生阻塞，這主要是edi進水中含有較多溶質(zhì)，在濃水室形成鹽的沉淀。遇到這種情況，我們可以通過進行edi化學清洗的方法對edi模塊進行清洗，然后再進行edi再生，使之恢復到原來的技術(shù)特性。

    edi模塊在清洗完成后，需要對其進行再生。進行edi再生有兩種情況，一種是標準情況，一種是特別情況。

    一、標準

    1、確認edi模塊內(nèi)沒有任何的化學藥品殘留存在；

    2、使系統(tǒng)構(gòu)建成一個閉路自循環(huán)管路；

    3、按照正常運行的模式調(diào)節(jié)好所有的流量和壓力；

    4、給edi送電，調(diào)節(jié)電流從2A開始分布緩慢向edi加載電流（不能超過4A）；

    5、直至產(chǎn)水電阻率達工藝要求到或者》12兆歐*厘米；

    提示：edi模塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚至更長的時間。

    二、特別情況

    1、對于在系統(tǒng)中午飯構(gòu)建系自循環(huán)管路系統(tǒng)可以按照下面的步驟進行再生；

    2、確認edi模塊內(nèi)沒有任何的化學藥品殘留存在；

    3、按照系統(tǒng)正常運行流量的百分之70%調(diào)節(jié)各個流量閥門；

    4、各個壓力及壓力差按照操作規(guī)定進行調(diào)節(jié)；

    5、給edi送電，調(diào)節(jié)電流從2A開始分步緩慢向edi加載電流（不能超過4A）；

    6、直至產(chǎn)水電阻率工藝要求到或者》12兆歐*厘米；

    提示：edi模塊的再生是一個比較長的時間，有時可能會長達10-24小時甚至更長的時間。